為后續的浸滲工藝和表面處理工藝打下良好的基礎，保證后續浸滲工藝和表面處理工藝的效果。所述的浸滲處理的具體過(guò)程為：②-1將浸滲膠水倒入真空浸滲罐中，浸滲膠水溫度保持在20℃以下；②-2將前處理后的粘結釹鐵硼磁體，裝入網(wǎng)袋或者網(wǎng)籃中后放入真空浸滲罐中，浸滲膠水的液面高度高于粘結釹鐵硼磁體至少15mm；②-3采用蓋子將真空浸滲罐封閉后采用真空泵對真空浸滲罐抽真空，在抽真空過(guò)程中實(shí)時(shí)觀(guān)察真空浸滲罐中泡沫的高度，若泡沫超過(guò)抽真空口，此時(shí)關(guān)閉真空泵，待泡沫下降至真空浸滲罐的抽真空口以下后再開(kāi)啟真空泵抽真空，周而復始，直至真空浸滲罐內壓力到，保壓10分鐘；②-4對真空浸滲罐卸壓，使其內壓力常壓后打開(kāi)蓋子，將粘結釹鐵硼磁體從真空浸滲罐中取出。該方法中，采用溫度在20℃以下的浸滲膠水進(jìn)行浸滲，且浸滲膠水的液面高度高于粘結釹鐵硼磁體至少15mm，先采用蓋子將真空浸滲罐封閉后采用真空泵對真空浸滲罐抽真空，在抽真空過(guò)程中實(shí)時(shí)觀(guān)察真空浸滲罐中泡沫的高度，若泡沫超過(guò)抽真空口，此時(shí)關(guān)閉真空泵，待泡沫下降至真空浸滲罐的抽真空口以下后再開(kāi)啟真空泵抽真空，周而復始，直至真空浸滲罐內壓力到，保壓10分鐘，然后對真空浸滲罐卸壓。釹鐵硼可以用于制造各種磁性傳輸設備，如磁性輸送帶、磁性懸浮列車(chē)等。象山釹鐵硼永磁

次磷酸鈉的濃度為20g/l，醋酸鈉的濃度為10g/l，檸檬酸鈉的濃度為8g/l，電鍍完成后，濺射膜層表面形成厚度為4μm的化學(xué)鎳層；③-4在滾筒內依次進(jìn)行三次水洗，滾筒轉速為2r/min；③-5采用草酸溶液對釹鐵硼磁體進(jìn)行清洗，草酸溶液由草酸和水均勻混合形成，草酸溶液中草酸的濃度為1g/l；③-6依次進(jìn)行兩次水洗，化學(xué)鎳處理完成。本實(shí)施例中，預處理的具體過(guò)程為：①-1在溫度為50℃條件下對釹鐵硼磁體進(jìn)行堿性脫脂處理；①-2對堿性脫脂處理后的釹鐵硼磁體依次進(jìn)行兩次水洗；①-3采用硝酸酸洗液在室溫條件下對釹鐵硼磁體進(jìn)行酸洗，硝酸酸洗液由硝酸和水均勻混合形成，硝酸酸洗液中硝酸的質(zhì)量百分比為5％；①-4對酸洗后的釹鐵硼磁體依次進(jìn)行兩次水洗；①-5將釹鐵硼磁體放入超聲波除油液中采用超聲波設備進(jìn)行超聲波除油處理，超聲波除油液由焦磷酸鉀、碳酸鈉、op乳化劑和水均勻混合形成，超聲波除油液中，焦磷酸鉀的濃度為40g/l，碳酸鈉的濃度為5g/l，op乳化劑的濃度為；①-6對釹鐵硼磁體依次進(jìn)行兩次水洗；①-7對釹鐵硼磁體進(jìn)行超聲波水洗；①-8采用酒精對釹鐵硼磁體進(jìn)行清洗，然后吹干，預處理完成。實(shí)施例二：一種釹鐵硼磁體復合鍍鎳方法。浙江釹鐵硼磁強釹鐵硼磁體的磁性能優(yōu)異，能夠滿(mǎn)足磁力計的需求。

當相鄰兩個(gè)工作室之間設置的封閉門(mén)封閉時(shí)，該相鄰兩個(gè)工作室隔離；在初始狀態(tài)，所有的封閉門(mén)均處于封閉狀態(tài)；設置一自動(dòng)傳送設備貫穿五個(gè)工作室，將五個(gè)工作室從前往后依次稱(chēng)為進(jìn)料室、預熱室、磁控濺射室、冷卻室和出料室，②-2將釹鐵硼磁體間隔擺放至網(wǎng)板上，每相鄰兩塊釹鐵硼磁體之間的間隔距離大于釹鐵硼磁體的厚度；②-3將擺放好釹鐵硼磁體的網(wǎng)板采用自動(dòng)傳送設備送入進(jìn)料室，然后將進(jìn)料室密封后抽真空至×10-3pa；②-4將進(jìn)料室和預熱室之間的封閉門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)傳送設備將進(jìn)料室中的釹鐵硼磁體送入預熱室中，將進(jìn)料室和預熱室之間的封閉門(mén)再次封閉，在預熱室中采用預烘設備對釹鐵硼磁體進(jìn)行預烘，預烘溫度為100℃，預烘時(shí)間為10分鐘；②-5將預熱室和磁控濺射室之間的封閉門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)傳送設備將預熱后的釹鐵硼磁體送入磁控濺射室中，然后將磁控濺射室和預熱室之間的封閉門(mén)再次封閉，在磁控濺射室中采用磁控濺射設備對釹鐵硼磁體進(jìn)行磁控濺射處理，其中，磁控濺射處理靶材采用鎳，靶功率為200w，氣壓為，在釹鐵硼磁體表面形成的濺射膜層的厚度為3-8μm，處理時(shí)間為10分鐘；②-6將磁控濺射室和冷卻室之間的封閉門(mén)打開(kāi)。

[1]釹鐵硼化學(xué)成分編輯釹鐵硼永磁材料是以金屬間化合物Nd2Fe14B為基礎的永磁材料。主要成分為稀土元素釹(Nd）、鐵（Fe）、硼（B）。其中稀土元素主要為釹（Nd），為了獲得不同性能可用部分鏑（Dy）、鐠（Pr）等其他稀土金屬替代，鐵也可被鈷（Co）、鋁（Al）等其他金屬部分替代，硼的含量較小，但卻對形成四方晶體結構金屬間化合物起著(zhù)重要作用，使得化合物具有高飽和磁化強度，高的單軸各向異性和高的居里溫度。第三代稀土永磁釹鐵硼是當代磁體中性能強的永磁體，它的主要原料有稀土金屬釹29%金屬元素鐵非金屬元素硼添加鏑鈮鋁銅。釹鐵硼辨別1.通常和一個(gè)相同規格的磁鐵放在一個(gè)可以吸附的平面上，如：貼片、刀片、鐵門(mén)等，用手感來(lái)辨別磁力的小2.用電子秤：磁力弱的磁鐵一般和他的密度有關(guān)系，密度小的話(huà)磁力也相對比較小，重量重的話(huà)磁力相對比較，相反重量輕磁力就小如果對磁鐵要求比較高就需要儀器的測試了。[1]釹鐵硼概述每類(lèi)產(chǎn)品按磁能積小劃分若干個(gè)牌號釹鐵硼磁性材料牌號有：N35—N52,35M—50M，30H—48H,30SH—45SH，28UH—35UH,28EH—35EH。牌號示例：048021表示（BH）max為366~398kj/m3，Hcj為800KA/m的燒結釹鐵硼永磁材料。釹鐵硼可以用于制造各種磁性液體，如磁性流體、磁性液體密封等。

預烘溫度為120℃，預烘時(shí)間為20分鐘；②-5將預熱室和磁控濺射室之間的封閉門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)傳送設備將預熱后的釹鐵硼磁體送入磁控濺射室中，然后將磁控濺射室和預熱室之間的封閉門(mén)再次封閉，在磁控濺射室中采用磁控濺射設備對釹鐵硼磁體進(jìn)行磁控濺射處理，其中，磁控濺射處理靶材采用鎳，靶功率為400w，氣壓為，在釹鐵硼磁體表面形成的濺射膜層的厚度為3-8μm，處理時(shí)間為20分鐘；②-6將磁控濺射室和冷卻室之間的封閉門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)傳送設備將磁控濺射處理后的釹鐵硼磁體送入冷卻室中，磁控濺射室和冷卻室之間的封閉門(mén)封閉，在冷卻室中采用冷卻設備將釹鐵硼磁體冷卻至80℃以下；②-7將冷卻室和出料室之間的封閉門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)傳送設備將冷卻后的釹鐵硼磁體送入出料室中，將冷卻室和出料室之間的封閉門(mén)封閉，從出料室內取出網(wǎng)板；②-8將網(wǎng)板上的釹鐵硼磁體翻面后間隔擺放至網(wǎng)板上，每相鄰兩塊釹鐵硼磁體之間的間隔距離大于釹鐵硼磁體的厚度；②-9按照步驟②-3～②-7的方法對釹鐵硼磁體進(jìn)行再次處理，得到連續磁控濺射鍍鎳處理后的釹鐵硼磁體。本實(shí)施例中。釹鐵硼磁體的磁性能優(yōu)異，能夠滿(mǎn)足高速列車(chē)的需求。寧波耳機釹鐵硼

釹鐵硼的磁性能力可以在高溫下保持穩定。象山釹鐵硼永磁

該連續磁控濺射鍍鎳處理采用連續式的生產(chǎn)流程，生產(chǎn)節拍可為40min/網(wǎng)板，較常規磁控濺射鍍鎳工序，工序流程較短，生產(chǎn)效率提高，可滿(mǎn)足快速生產(chǎn)需求。所述的對連續磁控濺射鍍鎳處理后的釹鐵硼磁體進(jìn)行電鍍化學(xué)鎳處理的具體過(guò)程為：③-1將連續磁控濺射鍍鎳處理后的釹鐵硼磁體裝入滾筒內，采用硫酸溶液進(jìn)行活化處理，硫酸溶液由硫酸和水均勻混合形成，硫酸溶液中硫酸的質(zhì)量百分比為2-3％，活化處理過(guò)程中，滾筒轉速為2-4r/min；③-2對活化處理后的釹鐵硼磁體依次進(jìn)行兩次水洗，兩次水洗均在滾筒內進(jìn)行，滾筒轉速為2-4r/min；③-3將兩次水洗后的釹鐵硼磁體采用ph值為，電鍍溶液溫度為88℃-93℃，電鍍溶液由硫酸鎳、次磷酸鈉、醋酸鈉、檸檬酸鈉和水均勻混合形成，該電鍍溶液中，硫酸鎳的濃度為25-32g/l，次磷酸鈉的濃度為20-30g/l，醋酸鈉的濃度為10-20g/l，檸檬酸鈉的濃度為8-12g/l，電鍍完成后，濺射膜層表面形成厚度為4-8μm的化學(xué)鎳層；③-4在滾筒內依次進(jìn)行三次水洗，滾筒轉速為2-4r/min；③-5采用草酸溶液對釹鐵硼磁體進(jìn)行清洗，草酸溶液由草酸和水均勻混合形成，草酸溶液中草酸的濃度為1-3g/l；③-6依次進(jìn)行兩次水洗，化學(xué)鎳處理完成。象山釹鐵硼永磁

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